OA-ICOS 工业用痕量气体分析仪能以最高的灵敏度、准确度、精度和响应速度，满足客户最苛刻的要求：

• 对半导体晶圆厂的工艺流程和为了人身健康与安全而进行气载分子污染物（AMC）监测

• 前开式晶圆传送盒（FOUP）和气相沉积室监测

OA-ICOS AMC 监测分析仪能以极高的精度和灵敏度，对环境空气或惰性工业气流中的氟化氢、氯化氢、氨和水蒸气进行高度灵敏地测量。该系列分析仪适用于进行半导体应用中的气载污染物监测、FOUP 监测和各种惰性气体背景下的测量，能以最佳的整体性能报告宽浓度范围内的测量结果。

该 OA-ICOS 痕量气体分析仪采用我们已获专利的离轴 ICOS 技术，也是第四代光腔增强吸收技术。该离轴ICOS 技术相比传统的光腔衰荡光谱（CRDS）技术具有许多优势，包括性能更加稳健和可靠，测量时间更短，光腔和镜片可现场维修等。

所有 ABB 仪器都配有内部计算机（Linux OS），能将每次分析的结果和被测气体的完整光谱都保存到内部硬盘上以实现长期无人值守的运行。数据可以通过模拟、数字（RS232）和 Modbus 输出连续地导出。而且，仪器可以通过互联网进行远程控制。通过远程访问，用户可在无需到达现场的情况下，控制仪器，获取数据，以及诊断故障。这些 OA-ICOS 分析仪操作简单，启动迅速（只需几分钟），无需现场标定，且预防维护需求极少。和所有ABB 分析仪一样，OA-ICOS 工业痕量气体分析仪由我们专业的服务和技术支持人员来支持。

关键特性

• 拥有 HF、HCI 和 NH₃ 中的单一气体或多气体配置

• 还能报告准确和精确的 H₂O 测量结果

• 标配 0 - 5 V 及模拟 4 - 20 mA 输出，可选 Modbus TCP

• 优化的数据处理，使得能以最优的性能测量亚 ppb级浓度

• 主密码保护可确保分析仪和数据安全

• 定制的标定和性能认证文件包

• 通过触摸屏进行气体浓度和分析仪状态的数字化显示

• 优化的零气性能，确保可靠地确认过程事件